光源功率/光罩檢測大有斬獲 EUV微影商用有眉目

作者: Kurt Ronse
2015 年 08 月 03 日
隨著台積電成功以更高功率的掃描光源運行極紫外光(EUV)微影系統,加上IMEC與EIDEC發布新的光罩基板檢測工具研究成果,EUV微影設備吞吐量(Throughput)及生產良率已逐漸達到晶圓廠量產標準,並有望在10奈米以下製程商用。
》想看更多內容?快來【免費加入會員】【登入會員】,享受更多閱讀文章的權限喔!
標籤
相關文章

導入跨領域合作研發流程 IoT應用貼近使用需求

2015 年 06 月 01 日

突破寄生效應桎梏 7奈米FinFET製程技術不卡關

2015 年 07 月 02 日

旋鈕調控搭配LED光源 智慧照明實現理想亮度/色溫

2015 年 05 月 04 日

掌握驅動器特性 低電壓AC LED應用放光芒

2011 年 07 月 07 日

節電效益顯著 需求端管理緩解限電危機

2015 年 09 月 28 日

自動調整光照度 車燈控制系統提升行車安全

2013 年 04 月 18 日
前一篇
改善缺工挑戰 台達電新款機器人可迅速安裝
下一篇
貿澤電子工業應用子網站再進化